Autodesk VRED Design 2021可以扶植用戶快速渲染你的注册作品，當設計師設計模型以後就可以通過這款軟件渲染，注册可以將Maya、注册3DSMAX的注册作品增補到這款軟件渲染，為用戶裸露成品模型提供更快的注册渲染計劃 ，這款軟件功能很多 ，注册机械起源手游官网可以在軟件編輯材質，注册可以設置幾何體、注册設置燈火  、注册設置材料
、注册設置場景
、注册設置相機、注册設置貼圖，注册為渲染配置一切內容，注册這裏小編推薦的注册就是Autodesk VRED Design 2021注冊機，使用這款注冊機就可以激活主程序，讓用戶可以免費使用主程序 ，如果你需要就下載吧！

新版功能

　　以下是VRED 2021產品中的新功能和增強功能 ：

　　VRED Go-將場景和查校驗器打包為一個可執行文件，您可以將其存儲在USB記憶棒中，然後讓他人在沒有許可證的情況下在任何計算機上查校驗。VRED Go使用AES-256加密 ，並且永遠不會提取場景數據  。結合密碼，加密是非常安全的 
。

　　GPU光線跟蹤 -為您的艱辛選擇提供靈活性。使用“光線跟蹤”下拉菜單 ，可以輕快地在CPU和GPU光線跟蹤之間切換 。您必須具有441.66或更高版本的NVIDIA驅動程序。

　　Autodesk Drive智能參考擁穿著 -提供一種在包含參考的項目中從任何位置鋪開協作的計劃。將您的VPB拖到Autodesk Drive上的共享文件夾中 。它將自動碰見依賴項 ，例如引用 ，並上載項目和所有引用文件 。文件更新後 ，將觸發通知，指示有可用更新。

　　腳本編輯器集成 -將腳本編輯器功能增補到“變量集”模塊的“腳本”選項卡和“腳本”首選項中。

　　內容自適應著色 -設置每種材料的著色率，這對於具有輕易裸露莫爾效應的精細圖案的材料很有用 。這可以鋪開微調 。使用“內容自適應著色”可以以更高的方舟生存进化破解版上帝模式質量渲染特定的材質
。

　　getVariantSetPreview（name） -得到變體集預覽（對於新的Web界麵）為base64編碼的字符串 ，類似於getViewpointPreview。

　　VRED設計中的次表麵散射 -現在可以在VRED設計的“材質編輯器”中使用此選項，該選項可模擬光進入物體並在其表麵下方散射的效果。用它來逼真的材質渲染 ，例如半透明的塑料 ，大理石，皮膚，樹葉 ，蠟和牛奶。使用這些類型的材料
，並非所有的光城市從表麵反射 。其中一些會穿著透照明物體的表麵 。在那裏，它將被物質吸收並在內部散布 
。這些散射光中的一部分會從表麵返回，並被照相機校驗到 。

　　VRED流應用程序 -增補此應用程序是對VRED應用程序的改進，以啟用實時流式渲染圖像 。在首選項中激活WebInterface並打開VRED App後，將 localhost ：8888用作校驗器中的URL 。

安裝計劃

　　1、下載以後解壓Autodesk_VREDDES_2021_0_Enu_Win_64bit_dlm.sfx.exe，解壓落成自動彈出安裝引導界麵 ，收受軟件協議

　　2、如圖所示 ，提示軟件的安裝地址設置，這裏自己設置吧

　　3、軟件的安裝進度界麵 ，等待安裝落成就可以了

　　4、軟件已經安裝落成，將軟件界麵隔絕

破解計劃

　　1 、打開路徑C:\Program Files (x86)\Common Files\Autodesk Shared\AdskLicensing ，點擊uninstall.exe把v10版本卸載，雙擊就可以自動卸載，等待幾秒鍾 ，卸載落成再重啟電腦；

　　2 、打開Crack破解文件夾
，雙擊"adsklicensinginstaller-9.2.2.2501.exe"安裝v9版本AdskLicensing；

　　3、等待安裝落成吧

　　4 、將電腦的方舟生存进化无敌血量破解版網絡禁用，避免官方檢測到在線激活

　　5 、打開安裝落成的Autodesk_VREDDES_2021軟件，點擊輸入序列號

　　6、這裏彈出協議內容，點擊擁穿著

　　7、點擊激活按鈕進入序列號輸入界麵

　　8、如圖所示 ，輸入序列號【666-69696969】和密鑰【885M1】 ，點擊next；會提示接合網絡出局，這時候點擊上一步

　　9、彈出這樣的注冊界麵，點擊第二項激活軟件

　　10 、複製軟件界麵顯示的申請號到注冊機激活

　　11、打開您下載的xf-adesk20_v2.exe注冊機，需要選擇管理員身份運行，否則無法增補補丁
，點擊patch就可以打補丁

　　12   、將申請號複製到第一欄，點擊generate計算軟件的注冊碼

　　13、將注冊碼複製到軟件的注冊界麵就可以正常激活

　　14、如圖所示 ，現在軟件已經激活落成

　　15 、打開軟件就可以正常使用這款軟件
，軟件界麵顯示資源管理器 ，可以查校驗渲染使用的幾何體  、材質、環境

　　16 、動畫查校驗功能，您可以通過軟件底部的動畫配置功能設計渲染動畫

　　17 、渲染圖像設置功能 ，可以調整圖像尺寸預設
、圖像尺寸、動畫剪輯、格式 、起始幀、落成幀
、幀步長、每秒幀數

常規Truelight材質設置

　　VRED中使用的許多Truelight材料共享屬性。

　　白熾

　　物體本身發出光的效果 。白熾燈在需要照明物體而無需在場景中使用全光照物體的各種情況下非常有用。設置可用於對象，方舟生存进化辅助菜单以影響其自身或周圍場景的照明。

　　強度

　　效果強度（範圍-0-1000） 。

　　顏色

　　光線的顏色 。

　　使用紋理

　　啟用使用紋理來根據紋理值控製效果的強度 。

　　鏈接紋理設置

　　如果為材質的多個紋理插槽選擇了此選項 ，則它們的紋理映射設置將鏈接在一起。例如，當更改鏈接紋理的“重複UV”時，一次更改所有鏈接紋理的UV。當為該材質選擇此選項而該材質的其他紋理已經選擇了鏈接選項時，該紋理設置將設置為已鏈接的紋理的設置。

　　根據材料的類型
，設置選項可能會有所不同 。對於輕便的Plastic和Phong常見材料
，現在可以為使用紋理選擇三種貼圖類型 ：

　　映射類型

　　設置紋理的映射類型 。可以選擇三種模式。

　　重複模式紫外線

　　設置紋理的重複模式 。有四種模式 ：

　　重複

　　在所有方向重複紋理。

　　鏡子

　　每次重複時 ，重複並鏡像x和y軸上的紋理 。

　　貼花

　　紋理不會重複。

　　鉗

　　僅重複紋理的最後一個像素。

　　對於UV貼圖類型

　　重複紫外線

　　設置UV的重複次數。

　　膠印紫外線

　　設置UV的偏移量。

　　旋轉

　　旋轉UV
。

　　對於平麵映射類型

　　投影中心

　　可以在此處設置投影中心的坐標（x，y ，z）。

　　投影方向

　　提供傾斜投影平麵的可能性。

　　投影尺寸

　　設置投影的大小。紋理默認為無限的投影深度，並覆蓋整個對象。您可以通過限製投影範圍將紋理限製在對象的一側 。將投影尺寸的Z值從零（無窮大）更改為另一個值可實現限製。

　　保持長寬比例

　　如果選擇
 ，將自動調整與紋理的原始縱橫比相對應的大小  。

　　旋轉

　　設置投影平麵在X / Y / Z軸上的旋轉 。

　　操縱

　　調整所選對象上的紋理 。按借宿Shift鍵並在操縱器上拖動以旋轉
，縮放或平移紋理
。拖動藍色比例控件可調整紋理的方舟内置mod作弊菜单下载深度限製。

　　適合尺寸

　　將投影平麵的大小調整為所選對象。

　　對象中心

　　將投影中心調整到所選對象的中心 。

　　對於三行映射類型

　　紋理尺寸X，Y

　　在X / Y軸上定義紋理大小。

　　X重複UV ，Y / UV
 ，Z / UV

　　設置每個投影方向的U軸和V軸的重複值 。

　　X偏移UV，Y / UV ，Z / UV

　　為每個投影方向設置U和V軸的偏移值。

　　X / Y / Z旋轉

　　設置投影方向
。

　　操縱

　　將紋理應用於所選表麵 。

　　各向異性

　　設置圖像紋理的紋理濾鏡質量。值1是最低質量 。值16是最高質量 。

　　評估光線（僅光線追蹤）

　　可以評估表麵上的光線 。這用於觀察射線文件的光線並使它在反射和折射中可見。射線的起源應在要評估的表麵上。

　　用作光源（僅光線追蹤）

　　光線追蹤時，將該材質用作場景中其他材質的光源 。

　　照亮陰影材質

　　允許白熾燈的陰影材料 。將陰影材質的“反射模式”設置為“漫反射”
，“光澤”或“漫反射+光澤”
。

　　在陰影材質上投射陰影

　　由於材質的白熾燈照明，允許其他對象在陰影材質上投射陰影 。

　　陰影強度

　　設置由幾何體光源投射的陰影的強度。

　　重要性乘數

　　如果選擇“用作光源”，則具有此材質的對象將用作幾何光源。大於1的值會增補光源在光子映射處發射光子的可能性。如果入射光來自外部環境 ，這對於內部暗光源很有用 。

　　互動/靜止幀質量

　　在交互式/靜止幀渲染期間控製照明並設置光采樣質量。

　　透明度設定

　　定義著色器的不透明度。

　　校驗穿著

　　使著色器透明 。

　　反轉紋理

　　反轉紋理
。

　　“常規Truelight材質設置-白熾度”部分介紹了“紋理”，“重複”，“偏移”，“旋轉”和“各向異性”設置 。

　　地下散射

　　半透明和地下散射是兩種計算穿著過對象背麵進入觀察者眼睛的光的不同計劃。半透明所需的計算能力要低得多 ，而地下散射則提供了更多的可能性和更大的靈活性 。

　　地下散射模擬光進入物體並在其表麵下方散射的效果。用它來逼真的材質渲染 ，例如半透明的塑料，大理石，皮膚 ，樹葉 ，蠟和牛奶
。使用這些類型的材料，並非所有的光城市從表麵反射
。其中一些會穿著透照明物體的表麵。在那裏，它將被物質吸收並在內部散布 。這些散射光中的一部分會從表麵返回，並被照相機校驗到 。

　　散射模式

　　半透明操作時有兩種模式 ，具體取決於要投影的對象
：

　　沒有

　　禁用地下散射。

　　薄壁半透明

　　在單麵對象上模擬半透明，因此將地下渲染為從後麵照亮的半透明對象。用於薄麵物體，例如氣泡 ，薄布 ，薄樹葉，燈罩或從後麵照亮的紙片。

　　它比固體半透明模式需要更多的計算時間 ，但是如果有疑問
，請使用此模式
。

　　體積散射

　　模擬被稀薄均勻的大氣散射的光。這會裸露從幾何對象投射的光軸和體積陰影。用於霧或煙。它適用於點光源，點光源
，地方光源，矩形光源 ，球形光源 ，圓盤光源和定向光源，但不適用於射線 。

　　顏色

　　確定散射/半透明光的顏色 。

　　毛糙度

　　定義應用於半透明光的擴散量。

　　散射模式次表麵散射

　　物體避開側麵上的入射光會在所有方向上折射。使用此模式，可以模擬蠟或其他半透明材料的行為。有兩種模式可用：

　　單次散射

　　允許光一旦在材料內部反彈
，然後反射到外部 。與多重散射相比，此模式準確性較低 
，但所需的計算時間較少 。

　　多重散射

　　使光在材料內部反射多次，然後反射到外部。該模式更精確 ，但是比單次散射需要更多的計算時間。

　　衰減

　　光在介質內部傳播的距離取決於衰減值 。值越高
，介質內部吸收的光越多。

　　不對稱

　　該值描述入射光的方向特性及其加權行為
。對於-1值 ，光沿著入射光路分布到避開的一側。值為1時
，光沿入射光路分布。值為0表示介質內部光的均勻分布。

　　選擇中

　　根據實際存在的材料，提供多種折射率選擇。所選介質會自動影響折射率。

　　折射率

　　定義光密度 ，因此定義了穿著過不同密度的材料時光的折射方式。

　　“ 白熾”部分介紹了“紋理”，“重複” ，“偏移” ，“旋轉”和“各向異性”設置。

　　移位

　　位移圖是詳細的圖
，被解釋為高度信息 。浮點位移圖可以使用實際值對正向和負向的位移鋪開編碼
。使用位移圖 ，您可以使用普通圖像從簡易的幾何圖形創建高度詳細的結構 。使用地圖的高度信息 ，沿插值頂點法線移動幾何圖形上的每個點
，從而裸露逼真的輪廓 ，裸露正確的陰影和反射。精度受紋理圖像分辨率的限製，並且內存需求較低 。為了避免在位移的表麵裸露裂紋，頂點法線應該平滑且一致 。使用更高的棋盤格化基礎網格可以晉升性能 。

　　排量高度

　　定義位移值的比例因子
。

　　位移偏移

　　定義位移的偏移量。允許您設置紋理中零平麵的值。零平麵以下的值在幾何內部移位，零平麵以上的值在幾何外部移位。

　　在OpenGL中使用精確輪廓

　　此功能使您可以像在光線跟蹤模式下一樣在OpenGL中計算位移。選擇它可能會大大下滑性能。

　　使用紋理

　　加載漫反射顏色通道的圖像紋理。將圖像用作表麵上的圖案
。

　　鏈接紋理設置

　　如果為材質的多個紋理插槽選擇了此選項，則它們的紋理映射設置將鏈接在一起。例如
，當更改鏈接紋理的“重複UV”時，一次更改所有鏈接紋理的UV。當為該材質選擇此選項而該材質的其他紋理已經選擇了鏈接選項時 ，該紋理設置將設置為已鏈接的紋理的設置
。

　　映射類型

　　選擇平麵貼圖或UV貼圖的類型
。

　　重複模式紫外線

　　設置紋理的重複模式。有四種模式
：

　　重複

　　在所有方向重複紋理。

　　鏡子

　　每次重複時，重複並在x和y軸上鏡像紋理。

　　貼花

　　紋理不會重複。

　　鉗

　　僅重複紋理的最後一個像素。

　　對於UV貼圖類型

　　您可以設置以下參數 ：

　　重複紫外線

　　設置UV的重複次數。

　　膠印紫外線

　　設置UV的偏移量。

　　旋轉

　　旋轉UV 
。

　　對於映射類型平麵

　　您可以設置以下參數 ：

　　投影中心

　　可以在此處設置投影平麵中心的坐標（x，y，z） 。

　　投影方向

　　提供傾斜投影平麵的可能性 。

　　投影尺寸

　　設置投影的大小 。

　　保持寬高比（複選框）

　　如果選中，則將自動調整與紋理的原始縱橫比相對應的大小。

　　旋轉

　　設置投影平麵在X / Y / Z軸上的旋轉
。

　　操縱

　　將紋理應用於所選表麵。

　　適合尺寸

　　將投影平麵的大小調整為所選對象 。

　　對象中心

　　將投影中心調整到所選對象的中心。

　　光線追蹤

　　這些設置僅在“光線跟蹤”渲染模式下生效。

　　物料編號

　　在[0，31]的範圍內設置材料的ID。

　　線管半徑

　　定義將著色器應用於線幾何體時的管的半徑  。

　　使用當地環境

　　如果選擇，則在所有照明模式下，將從分配給該材料的環境中計算出漫反射和光澤反射 
。鏡麵反射由場景中存在的環境確定 。

　　忽略光子貼圖

　　在計算像素的照度時，選擇此選項不包括光子貼圖的光值。

　　替代照明模式

　　如果選擇此設置 ，則該設置將覆蓋用於交互式或靜態幀渲染的全局設置照明模式 。

　　互動/靜態框架

　　在“渲染視圖”交互/靜止幀渲染期間設置渲染質量模式和渲染質量級別。

　　預先計算

　　此模式不計算直接反射，也不計算折射或任何其他繁雜的視覺效果
。

　　預計算+反射 -此模式與VRED OpenGL渲染模式相當。它使用預先計算的環境光遮擋和間接照明鋪開渲染，並計算鏡麵反射 ，折射和校正光源的陰影。

　　預先計算+陰影 -此模式使用預先計算的基於圖像的照明和間接照明
 ，但不使用預先計算的環境光遮蔽值。而是根據活動環境計算陰影。

　　預先計算+ IBL-此模式使用預先計算的間接照明並對環境鋪開采樣。

　　全局照明 -全局照明模式不使用任何預先計算的值，而是以基於物理的計劃精確地采樣所有內容。其他功能（如“光子貼圖”）要求將渲染模式設置為“完全全局照明”。

　　覆蓋IBL采樣質量

　　如果選擇此設置 ，則該設置將覆蓋對環境圖鋪開采樣的全局IBL采樣質量。

　　互動/靜態框架

　　在交互式/靜止幀渲染期間設置IBL采樣質量 。

　　覆蓋反射/折射采樣質量

　　如果啟用，該設置將覆蓋反射/折射的整體采樣質量。

　　互動/靜態框架

　　設置交互式/靜止幀渲染期間的反射/折射采樣質量。

　　覆蓋行線深度

　　如果選擇此設置，則該設置將覆蓋用於交互式或靜止幀渲染的全局設置照明模式
。

　　互動/靜態框架

　　在交互式/靜止幀渲染期間設置跟蹤深度 。

　　共同

　　通用設置定義了所有BRDF材料中都存在的材料設置。

　　遮擋顏色

　　設置著色器的預先計算的環境光遮擋顏色
。

　　遮擋強度

　　設置著色器的預先計算的環境光遮擋強度

　　縮減規模紋理（OpenGL）

　　縮減規模所有使用的紋理以節省磁盤空間，並有助於裁減大型場景中的內存需求 。

　　排序鍵（OpenGL）

　　可以根據控製圖紙透明麵順序的關鍵點將材料分類為組。

　　環境

　　右鍵單擊以打開上下文菜單，以選擇要用作光源的HDR圖像 。

　　照明模式

　　定義要用於著色器的燈光模型。有五種不同的照明模型。

　　IBL +間接+直接照明

　　著色器受HDR圖像 ，預先計算或交互的全局照明渲染以及場景中放置的直接光源的影響 。

　　IBL +間接

　　著色器受HDR圖像以及預先計算或交互的全局照明渲染的影響 。

　　IBL +直射燈

　　著色器受HDR圖像和場景中放置的直接光源影響。

　　國際勞工聯盟

　　僅HDR圖像會影響著色器
。

　　直射燈

　　僅放置在場景中的直接光源會影響著色器。

　　可變速率陰影

　　重要 ：

　　這是OpenGL特有的渲染功能。

　　設置每種材質的明暗度 ，例如2x2粗化或4x超級采樣。使用可變速率陰影來改變圖像不同部分所需的籌備能力。用戶所校驗的像素比其周圍的任何像素都具有更高的分辨率，從而節省了籌備能力 。可變速率陰影還可以提供更流暢的VR體驗。

　　對於具有輕易裸露波紋效應的精細圖案的材料，例如帶有鋸齒狀細線的碳或HMI紋理 ，請使用超采樣陰影率。如果您想得到更好的性能，請使用粗略的陰影率，此目的無其他用途 。這兩個都可以在VR和桌麵模式下使用。

　　例如 ，所有材料均以自然著色率（每個像素1個樣本）“正常”渲染 ，但碳材料應使用超采樣（每個像素4個樣本）鋪開渲染。

　　同時使用凹入式渲染時 ，始終以其自定義陰影率渲染材質 。例如
 ，碳材料在整個屏幕上以及在凹入地方的外圍使用4個樣本鋪開渲染。

　　關

　　禁用可變速率陰影。

　　1個樣品

　　啟用普通像素陰影的可變速率陰影
，但與VRS隔絕沒有視覺差異。

　　每4像素1個樣本

　　為每4個像素1個樣本的粗略像素陰影啟用可變速率陰影。

　　每16像素1個樣本

　　為每16個像素1個樣本的粗略像素陰影啟用可變速率陰影。

　　2個樣品

　　為每個像素2個樣本的超采樣像素陰影啟用可變速率陰影。

　　4個樣品

　　為每個像素4個樣本的超采樣像素陰影啟用可變速率陰影。

　　8個樣品

　　為每個像素有8個樣本的超采樣像素陰影啟用可變速率陰影 。